镀膜材料的蒸发工艺流程

　　蒸发过程中，需要设定条件:膜材蒸发温度、膜材蒸发的蒸汽压力;膜材料的蒸发速率。镀膜材料逃逸迁移的蒸发过程中，需要建立条件:在镀膜过程中，要保持真空室的真空度一直高于10-2Pa，真空度应是一个合适的固定值，不是越高越好。为了使反应气体与气膜材料颗粒充分反应，可选择较低的沉积速率。当然，对于不同的材料，应选择不同的蒸发速率。

     如果根据透明度判断，铝箔、镀铝膜一般是不透明的复合膜;具有高阻隔功能，一般用于复合膜。从薄膜的外观和机械性能可以大致判断基膜材料。真空镀膜专指在真空条件下用物理方法，将物质表面气化成气态原子、分子或部分电离离子，并通过低压气体的过程，将基材材料表面沉积成具有薄膜材料某些特殊特性的材料，按操作工艺可分为两种，溅射沉积法和真空蒸发沉积法。PVD技术是制备薄膜材料的主要技术之一，在真空条件下用物理方法，将物质表面气化成气态原子、分子或部分电离离子，并通过低压气体(或等离子体)过程，基片材料表面沉积具有特殊功能的薄膜材料。