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镀膜材料的性能随薄膜厚度的变化而变化，在500nm处折射率约为1.8。它是非常受欢迎的铝保护膜，特别是在800-1 2000nm高入射角的区域，可作为玻璃保护膜，并可24小时暴露在湿气中。一般为粒状和片状。
镀膜组分的均匀性不是很容易保证，具体因素可以按上述规定进行调节，但由于原理有限，对于非单组分镀膜，蒸发镀膜组分均匀性不好。薄膜材料的主要技术之一是指在真空条件下，通过物理方法在某些材料表面气化成气态原子和分子或部分电离成离子的技术。并通过低压气体(或等离子体)工艺在基材表面沉积具有某些特殊功能的薄膜材料。在PVD技术中，用于制备薄膜材料，统称PVD镀膜材料。
