真空镀膜加工PVD镀膜工艺的深入阐述

PVD镀膜工艺是目前3C电子等领域应用的主流工艺之一，近期华为发布的P20极光色手机，就是采用了PVD真空渐变镀膜工艺，引领了新一代渐变色镀膜工艺的浪潮。

典型的PVD真空渐变镀膜就是华为P20了，是直接在曲面玻璃盖板上进行多层光学镀膜来实现渐变结构色。

华为P20渐变效果是通过溅射成膜时改变玻璃基片上中下区域的成膜厚度（形成递增或递减的变化），从而形成特定的彩虹色光带，难点就在于光谱色的渐变区间非常难把控，需要不停调整溅射机内部的修正板控制玻璃不同区域的光学厚度

溅射镀膜和蒸发镀膜的对比： 

溅射镀膜工艺可重复性好、膜厚可控制，可在大面积基板材料上获得厚度均匀的薄膜，所制备的薄膜具有纯度高、致密性好、与基板材料的结合力强等优点，已成为制备薄膜材料的主要技术之一，各种类型的溅射薄膜材料已得到广泛的应用，因此，对溅射靶材这一具有高附加值的功能材料需求逐年增加，溅射靶材亦已成为目前市场应用量最大的 PVD 镀膜材料。 蒸发镀膜简单便利、操作方便、成膜速度快。从工艺制造角度上来看，蒸镀材料的制造复杂度要远远低于溅射靶材，蒸发镀膜常用于小尺寸基板材料的镀膜。

竞争格局

平板显示器主要包括液晶显示器（LCD）、等离子显示器（PDP）、场致发光显示器（EL）、场发射显示器（FED）、有机发光二极管显示器（OLED）以及在 LCD 基础上发展起来的触控（TP）显示产品。 其中，市场应用以液晶显示器为主。镀膜是现代平板显示产业的基础环节，为保证大面积膜层的均匀性，提高生产率和降低成本，几乎所有类型的平板显示器件都会使用大量的镀膜材料来形成各类功能薄膜，其所使用的 PVD 镀膜材料主要为溅射靶材，平板显示器的很多性能如分辨率、透光率等都与溅射薄膜的性能密切相关。 

平板显示行业主要在显示面板和触控屏面板两个产品生产环节使用 PVD 镀膜材料。其中，平板显示面板的生产工艺中，玻璃基板要经过多次溅射镀膜形成 ITO 玻璃，然后再经过镀膜，加工组装用于生产 LCD 面板、PDP 面板及 OLED 面板等。触控屏的生产，则还需将 ITO 玻璃进行加工处理、经过镀膜形成电极，再与防护屏等部件组装加工而成。 此外，为了实现平板显示产品的抗反射、消影等功能，还可以在镀膜环节中增加相应膜层的镀膜。 

在OLED 工艺中，TFT 阵列和 Cell 成盒两个阶段包含众多复杂工艺，关键设备（TFT 设备、蒸镀设备和封装设备）几乎被日本、韩国和美国所垄断，且设备价格昂贵，其中蒸镀设备是整个面板生产过程中最核心的环节，直接影响到制成品的良率和质量，目前市场上的蒸镀设备由日、韩两国垄断。 

PVD 镀膜工艺起源于国外，在行业发展初期，镀膜设备和镀膜材料的配套以国外厂商为主。国外 PVD 镀膜材料厂商的镀膜材料经过与下游客户的镀膜设备、镀膜工艺的长期磨合，各项性能指标与客户的匹配性已较好，具有较强的先发优势，因此，长期以来全球 PVD 镀膜材料研制和生产主要集中于美国、日本和德国少数公司，产业集中度较高。