光学镀膜原理是什么

光学镀膜是一项精妙的工艺，其核心原理基于光的干涉现象。

当光线照射到光学元件表面时，部分光被反射，部分光透过元件，这一过程会造成光能量的损失。而光学镀膜通过在元件表面沉积一层或多层极薄的膜层，巧妙地调控光的反射与透射特性。这些膜层的厚度通常在纳米级别，能与光的波长相比拟。

以常见的增透膜为例，其原理利用了光的干涉相消。在玻璃镜片等光学元件上镀一层厚度为特定波长四分之一的膜层，当光线垂直入射时，膜层上下表面反射的光，由于光程差恰好为半个波长，会发生干涉相消。如此一来，原本在镜片表面大量反射的光线减少，更多光线得以透过镜片，大大提高了镜片的透过率，让我们透过镜片观察物体时更加清晰，这在相机镜头、望远镜镜片等应用中极为关键。

对于高反射膜，原理则是光的干涉相长。通过设计多层膜系，每层膜的厚度与折射率精心搭配，使得光线在膜层间多次反射，反射光的相位在特定波长下一致叠加，从而实现反射率。在激光器谐振腔的反射镜、天文望远镜的反射镜等需要反射光线的地方，高反射膜发挥着不可替代的作用。

PVD如蒸发镀膜，将镀膜材料加热至蒸发状态，原子或分子在真空中飞向基底并沉积成膜；CVD则是利用气态反应物在基底表面发生化学反应，生成固态膜层。这些方法在不同场景下各展所长，共同助力光学镀膜实现所需光学性能，满足多元的光学应用需求。