光学镀膜技术

　　1、蒸腾堆积

　　在蒸腾堆积时，真空室中的源资料受到加热或电子束轰击而蒸腾。蒸气冷凝在光学外表上。在蒸腾期间，经过准确操控加热，真空压力，基板定位和旋转能够制造出具有特定厚度的均匀光学镀膜。

　　蒸腾具有相对温和的性质，会使镀膜变得松懈或多孔。这种松懈的镀膜具有吸水性，改变了膜层的有效折射率，将导致性能下降。经过离子束辅助堆积技术能够增强蒸腾镀膜，在该过程中，离子束会对准基片外表。这增加了源资料相对光学外表的粘附性，发生更多应力，使得镀膜更致密，更耐久。

　　2、离子束溅射(IBS)

　　在离子束溅射(IBS)时，高能电场能够加快离子束。这种加快度使得离子具有显着的动能。在与源资料撞击时，离子束会将靶材的原子“溅射”出来。

　　这些被溅射出来的靶材离子(原子受电离区影响变为离子)也具有动能，会在与光学外表触摸时发生致密的膜。IBS是一种准确的，重复性强的技术。

　　光学镀膜

　　3、等离子体溅射

　　等离子体溅射是一系列技术的总称，例如高级等离子体溅射和磁控管溅射。不管是哪种技术，都包含等离子体的发生。

　　等离子体中的离子经加快射入源资料中，撞击松懈的能量源离子，然后溅射到目标光学元件上。虽然不同类型的等离子体溅射具有其共同的性质和优缺点，不过咱们能够将这些技术调集在一起，由于它们具有共同的工作原理，它们之间的差异，相比这种镀膜技术与本文中触及的其他镀膜技术之间的差异小得多。

　　4、原子层堆积

　　与蒸腾堆积不同，用于原子层堆积(ALD)的源资料不需要从固体中蒸腾出来，而是直接以气体的方式存在。虽然该技术运用的是气体，真空室中依然需要很高的温度。

　　在ALD过程中，气相前驱体经过非重叠式的脉冲进行传递，且脉冲具有自限制性。这种工艺拥有共同的化学性设计，每个脉冲只粘附一层，而且对光学件外表的几何形状没有特殊要求。因此这种工艺使得咱们能够高度的对镀层厚度和设计进行操控，但是会下降堆积的速率。

　　5、亚波长结构化外表

　　小于光波长的外表结构已成为光学界的一门研究课题，其灵感来自于飞蛾眼睛上的纹路图画。外表纹路化依然是一种发展中的技术，与传统的薄膜镀膜替换堆积高折射率资料和低折射率资料不同的是，它需要改变基片外表的结构。

　　纹路外表上的特征能够是随机的或周期性的，犹如飞蛾眼睛的图画。对于亚波长结构化外表的制造，如果想要周期性的图画，咱们能够选用光刻法，如果想要随机的图画，咱们能够选用改进的等离子体蚀刻。