真空镀膜和光学镀膜有什么差异

　　真空镀膜和光学镀膜有什么差异

　　一、概念的差异

　　1、真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属资料，使其蒸腾并凝聚于镀件（金属、半导体或绝缘体）外表而构成薄膜的一种办法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。

　　2、光学镀膜是指在光学零件外表上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺进程。在光学零件外表镀膜的意图是为了到达减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。

　　二、原理的差异

　　1、真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为根底，使用物理或化学办法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产供给薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸腾或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝聚并堆积的办法。

　　2、光的干涉在薄膜光学中广泛应用。光学薄膜技术的遍及办法是凭借真空溅射的方式在玻璃基板上涂镀薄膜，一般用来操控基板对入射光束的反射率和透过率，以满意不同的需求。为了消除光学零件外表的反射丢失，进步成像质量，涂镀一层或多层通明介质膜，称为增透膜或减反射膜。

　　跟着激光技术的开展，对膜层的反射率和透过率有不同的要求，促进了多层高反射膜和宽带增透膜的开展。为各种应用需求，使用高反射膜制作偏振反光膜、五颜六色分光膜、寒光膜和干涉滤光片等。光学零件外表镀膜后，光在膜层层上屡次反射和透射，构成多光束干涉，操控膜层的折射率和厚度，能够得到不同的强度分布，这是干涉镀膜的基本原理。

　　三、办法和资料的差异

　　1、真空镀膜的办法资料：

　　(1)真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽暇后将膜料加热到高温，使蒸气到达约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体外表，凝聚而成薄膜。

　　(2)阴极溅射镀：将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体(如氩)通入已抽暇的室内，坚持压强约1.33～13.3Pa，然后将阴极接上2000V的直流电源，便激发辉光放电，带正电的氩离子碰击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛堆积到基体上构成膜。

　　(3)化学气相堆积：通过热分化所选定的金属化合物或有机化合物，获得堆积薄膜的进程。

　　(4)离子镀：实质上离子镀系真空蒸镀和阴极溅射镀的有机结合，兼有两者的工艺特色。表6-9列出了各种镀膜办法的优缺点。

　　2、光学镀膜办法资料

　　(1)氟化镁：无色四方晶系粉末，纯度高，用其制备光学镀膜可进步透过率，不出崩点。

　　(2)二氧化硅：无色通明晶体，熔点高，硬度大，化学稳定性好。纯度高，用其制备高质量Si02镀膜，蒸腾状况好，不呈现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。

　　(3)氧化锆：白色重质结晶态，具有高的折射率和耐高温功能，化学性质稳定，纯度高，用其制备高质量氧化锆镀膜，不出崩点。