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真空镀膜加工的常用办法

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真空镀膜加工的常用办法

发布日期:2019-11-23 00:00:00 作者: 点击:0

  真空镀膜加工的常用办法

  真空镀膜加工的办法许多:

  (1)真空蒸镀:将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室,抽空后将膜料加热到高温,使蒸气到达约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面,凝结而成薄膜。

  (2)阴极溅射镀:将需镀膜的基体放在阴极对面,把惰性气体(如氩)通入已抽空的室内,保持压强约1.33~13.3Pa,然后将阴极接上2000V的直流电源,便激发辉光放电,带正电的氩离子碰击阴极,使其射出原子,溅射出的原子经过惰性气氛堆积到基体上形成膜。

  (3)化学气相堆积:经过热分解所选定的金属化合物或有机化合物,取得堆积薄膜的进程。

  (4)离子镀:实质上离子镀系真空蒸镀和阴极溅射镀的有机结合,兼有两者的工艺特点。


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关键词:真空镀膜加工的常用办法

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