光学镀膜直接影响的是哪里？

　　光学镀膜随着激光技术的发展，对薄膜的反射率和透射率提出了不同的要求，促进了多层高反射膜和宽带减反射膜的发展。 对于各种应用需求，使用高反射膜来制造偏振反射膜，分色膜，冷光膜，干涉滤光片等。

　　镀膜的光学性质，例如折射率，吸收率和激光损伤阈值，主要取决于镀膜的微观结构。 薄膜材料，残余气压和基材温度都可能影响薄膜的微观结构。 如果在基材表面上气相沉积的原子的迁移率较低，则镀膜将包含微孔。 当薄膜暴露于潮湿空气中时，这些孔逐渐被水蒸气填充。如柱面镜。

　　光学薄膜的技术性能和可靠性，直接影响到应用系统的性能、可靠性及成本。

　　光学镀膜技术在过去几十年实现了长足的进展，从舟蒸发、电子束热蒸发及其离子束辅助沉积技术发展到离子束溅射和磁控溅射技术。

　　光线射入玻璃基板时，会产生4%左右的反射而造成透过率的损失。但是，通过在玻璃基板上蒸镀比玻璃的折射率更低的电介质膜，可以改变玻璃基板的反射率。

　　调节电介质膜的厚度使其光程(折射率n×膜厚d)为λ/4时，可以相互抵消玻璃基板和电介质膜，电介质膜和空气的分界面的反射，将反射率降到较低。

　　但是，由于折射率受到薄膜材料的限制，所以反射率不能完全为零。而且，由于受玻璃基板折射率的限制，所以并不是所有玻璃基板都能得到防反射效果。

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