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手机壳真空镀膜加工技术,就可以较好地解决这个难题。真空镀膜是在原子水平上进行材料生成的技术,镀层的晶料度在10纳米左右,属于纳米材料的范畴。通过对手机壳内壁真空镀电磁防护膜层,可以较大地防止因电磁波辐射而对手机使用者造成的危害。
镀膜技术的研究与应用,不仅推动了手机制造业的发展,也推动了相关产业的发展。有电磁辐射的产品都可以应用这项技术进行电磁屏蔽,以对其使用性能进行优化,保护人类健康,保护环境。
按镀膜机操作规程对真空室进行抽真空。当真空度达到3710Pa-以后,依次对舟预熔,去除膜料中的气体。此时,应注意用挡板挡住膜料,以保证预熔中基片不被镀上。当真空度达到要求后,采用/4l极值发控制光学厚度的方法进行镀制,可以选择前面给出的两种膜系中的任意一个膜系镀膜,将控制波长放在632.8nm或其他波长。首先在玻璃基片上镀制H层。随着膜层增厚,放大器指示的光电流将下降。当光电流数值刚刚开始回升时,立即将挡板挡上。