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光学镀膜模型是表面光滑、各向同性的均匀介质薄层。在这种情况下，可以用光的干涉理论来研究光学镀膜的光学性质。当一束单色平面波入射到光学镀膜上时，在它的两个表面上发生多次反射和折射，反射光和折射光的方
发布时间：2021-08-17 00:00:00
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真空镀膜加工工艺中，要求装配到高真空环境的零件，事先都需要小心地进行清洗处理，否则各种污染物可成为大量气体和蒸气的来源，会大大延长真空器件的排气时间，不易获得高真空。
去除或减少污染物将有
发布时间：2021-08-09 00:00:00
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镀膜材料呈连续状态的较大特点依然是表现出各种性质对膜55% B 56°C ;厚的依赖性，而且在许多情况下，这种依赖性与温度有很大关系，即温度越低，现象越明显。 高真空蒸镀的镀膜，与膜厚的关系甚小，而且在某
发布时间：2021-07-22 00:00:00
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此外我们知道,光由透明介质进入吸收介质时，折射角变.成一个复向量,它标志着折射光的等相面与等幅面不再重合,也意味着折射光对入射光有一个位相变化，在吸收介质的消光系数很大而且光的波长又不是很短时,二者近
发布时间：2021-07-14 00:00:00
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光学镀膜的真空蒸镀是在10-8~10-4Pa的压力下，采用各种形式的热能转换方式使镀膜材料蒸发，并成为具有- -定能量的气粒子(原子、分子或原子团),蒸发的气态粒子通过基本.上无碰撞的直线运动方式传输到基底，然后在
发布时间：2021-07-08 00:00:00
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目前，镀膜技术作为材料制备的新技术，已从实验室的探索性研究转而应用于大规模的工业生产，并且正在向各个行业中渗透,其应用范围和作用还正在不断地扩大和深化。这种新技术不仅涉及到物理学、化学、结晶学
发布时间：2021-07-01 00:00:00
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各类光学薄膜设计为什么要镀膜？镀膜基础知识了解。
光学镀膜分析技术PVD工艺特点基本薄膜材料的应用和参数真空的获得与测量技术 影响膜层质量因素电子枪日常维护与保养(leyb
发布时间：2021-06-23 00:00:00
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一、光学镀膜——薄到可以产生干涉现象的膜层、膜堆或膜系——干涉薄膜。
回顾: 干涉原理:同频率光波的复振幅矢量叠加。干涉现象:单色光产生亮暗相间的空间干涉条纹; 多色混合光出现
发布时间：2021-06-23 00:00:00
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常用的镀膜材料有氟化钇、氟化镨、锗等；对于YAG激光灯近红外波段或可见光波段，常用的镀膜材料有硫化锌、氟化镁、二氧化钛、氧化锆等。除了高反膜、增透膜之外，还可以镀对某波长增反射、对另一波长增透射的特
发布时间：2021-06-22 00:00:00
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简单的光学薄膜模型是表面光滑、各向同性的均匀介质薄层.在这种情况下，可以用光的干涉理论来研究光学薄膜的光学性质.当一束单色平面波入射到光学薄膜上时，在它的两个表面上发生多次反射和折射，反射光和折射光
发布时间：2021-06-10 00:00:00
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光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化
发布时间：2021-06-04 00:00:00
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手机壳真空镀膜加工技术，就可以较好地解决这个难题。真空镀膜是在原子水平上进行材料生成的技术，镀层的晶料度在10纳米左右，属于纳米材料的范畴。通过对手机壳内壁真空镀电磁防护膜层，可以较大地防止因电磁波
发布时间：2021-05-27 00:00:00
